Envíos gratis por compras superiores a USD 1000

MUTECH MICROSYSTEMS

Sobre Mutech Microsystems

Acercando la nanotecnología.

Estamos enfocados al desarrollo y venta de proyectos, sistemas y equipos para la promoción de la ciencia, tecnología y educación en las áreas de microfabricación, micro y nanomecánica y electrónica.
Nos interesa promover, a través del desarrollo y comercialización de equipos de alta tecnología, la formación de recursos humanos de calidad, para simplificar la generación de nuevos conocimientos y mejorar el acceso del sector productivo a nuevas tecnologías.
productoals

Mutech microlaser

Nombre del producto: Mutech microlaser
Marca: Mutech
Técnica: μLaser

El μLaser es un sistema de litografía de laser directo de alta calidad orientado a universidades y centros de investigación que busquen ampliar su capacidad instalada. Escribe sobre superficies de resina fotosensible con un láser de 405nm permitiendo resoluciones submicrónicas en grandes áreas. Puede grabar cualquier cosa, desde fotomáscaras hasta prototipos de investigación para ciencia básica o aplicada. Cuenta con una cámara integrada e iluminación amarilla para enfoque del láser, alineación de escritura con detalles establecidos, así como para inspeccionar el diseño posteriormente. El μLaser ha sido optimizado para que sea fácil de usar y tenga un mantenimiento sencillo, maximizando el uso de piezas disponibles sin sacrificar la calidad de la escritura o las capacidades.

  1. Area de escritura de 100×92 mm.
  2. Resolución de 32000 DPI.
  3. Tamaño de elemento 5 -10 micras.
  4. Microscopio integrado confocal para enfoque de láser, alineación e inspección.
  5. Tamaño de spot de laser intercambiable utilizando de industria estandarizados.
  6. Compensación de sustrato por enfoque de 3 puntos o medición bilineal de 4 puntos.
  7. Escritura de múltiples diseños de archivos distintos en un solo proceso.
XY stage
Velocidad de escritura tipica100-120 mm/s
 Área Máxima100×92 mm
Paso de posicionamiento unidireccionalX = 0.16 μm, Y = 1.00 μm
 Ruido mecánico en los ejes X e Y< 1 μm
 Precisión de alineación multicapa5-10 µm (Plataforma giratoria opcional para facilitar la alineación)
Tamaño mínimo realista del elemento: 6-15µm dependiendo del elemento
Software
Formatos compatiblesPNG,GDSII
Transformaciones In-softwareRotación, Reflexión, Inversión, Reescalado, Añadir borde
Se pueden escribir múltiples diseños de diferentes archivos en un solo proceso
Calibración del tipo de malla para la compensación de la curvatura
Modos de escritura unidireccional o bidireccional
Óptica
Longitud de onda del láser405nm (Optional 375nm)
Microscopio confocal para enfocar, alinear e inspeccionar el láser
Iluminación secundaria independiente de color amarillo
El tamaño del punto láser puede modificarse con objetivos de microscopio estándar.
Objetivos Incluidos
 PasoVelocidad en áras grandes (unidirecional)
Fino0.8 µm1.7 mm/min
Medio fino0.96 µm2.04 mm/min
Medio2 μm4.25 mm/min
Grueso5 μm10.6 mm/min

La litografía láser directa reduce en gran medida los costos y tiempos de ejecución en áreas como microfluídica, microelectrónica, micromecánica e investigación en ciencia de materiales, al eliminar la dependencia de proveedores externos para la producción de fotomáscaras.

μLaser se entrega con su software de control en una PC. Le permite importar los diseños para ser escritos desde celdas de archivos GDSII o directamente desde imágenes PNG. Todo se hace desde una interfaz gráfica fácil de usar que le permite obtener una vista previa del diseño para escribir antes de ejecutarlo. Se pueden combinar múltiples diseños en un solo proceso, además de aplicar transformaciones como rotaciones, reflejos, inversiones o ajustes de escala a cada diseño. Los escritos se pueden alinear con diseños anteriores sobre el sustrato utilizando la cámara confocal.

μCoater

Mutech microcoater

Nombre del producto: Mutech microcoater
Marca: Mutech
Técnica: μCoater

El microcoater de Mutech microsystems es un spin coater de sobremesa muy fácil de usar y lleno de prestaciones, incluye un sistema de vacío integrado con un plato de vacío giratorio y una bomba para sujetar los sustratos a recubrir mientras se gira. No necesita una bomba de vacío externa, está integrada en el interior.

 

Tiene una construcción de cuerpo totalmente metálico (acero y aluminio) con un plato de vacío de polipropileno, el interior del bol de hilatura está recubierto con un material a base de PTFE que es muy fácil de limpiar.

Utiliza un motor sin escobillas outrunner de alta calidad. Este tipo de motores son muy eficientes y tienen una fricción estática muy baja, lo que resulta en una larga vida útil..

  1. Sujeción por vacío y bomba integrada
    and pump.
  2. Interfaz gráfica de usuario LCD TFT a color. C
  3. Navegación basada en contexto con botones y rotor codificado.
  4. Motor outrunner sin escobillas.
  5. Orificio dispensador en tapa de 8mm.
  6. Recipiente de centrifugado recubierto por PTFE para fácil limpieza.
  7. Capacidad de muestra: desde fragmentos de 5x5mm hasta obleas de 4 pulgadas.
Rotation
Velocidad Máxima10000 rpm
Velocidad Mínima500 rpm
Aceleración Máxima5000 rpm/s
Tiempo Máximo por paso1000 s
Sistema de vacío y mecánica
Bomba de vacíoIntegrated
Diámetro de o-ring de sujeción de vacío36 mm
Diámetro externo de sujeción de vacío45 mm
Memoria
Programas10
 Pasos por programaUp to 7
Contenido de cada paso45 mm
Materiales
Marco Hoja de acero/Pintura de Poliuretano paint
TapaVidrio
Sujetador y accesoriosPolipropileno

El proceso de recubrimiento por spin coating es una de las mejores formas de depositar películas delgadas de materiales de recubrimiento sobre sustratos. Por lo general, se aplica una pequeña cantidad del material de recubrimiento en el centro de un sustrato y luego se gira a alta velocidad de manera controlada, lo que da como resultado una película homogénea sobre el sustrato.

Esta tecnología se suele utilizar para la deposición de materiales fotosensibles para aplicaciones de microfabricación, para el depósito de nanopartículas y nanotubos o para procesos sol-gel. Por supuesto, puede utilizar nuestro sistema spin coating para cualquier proceso que requiera.

Cuenta con una pantalla LCD TFT a todo color con una interfaz gráfica de usuario intuitiva y muy simple de usar donde puede guardar múltiples programas de recubrimiento.

Cada programa puede tener varios pasos de centrifugado con diferentes velocidades, aceleraciones y tiempos de centrifugado por paso.

La bomba de vacío integrada también es controlada desde la interfaz de usuario.

También ofrecemos una variedad de diferentes adaptadores, accesorios y desarrollos personalizados para nuestros clientes, en caso de que necesite una modificación específica para adaptarse a su aplicación, contáctenos para discutir las opciones disponibles.

μExposer

Mutech microexposer

Nombre del producto: Mutech microexposer
Marca: Mutech
Técnica: Mutech

El microexpositor de Mutech microsystems es un sistema de exposición UV diseñado para aplicaciones de microfabricación. Permite al usuario realizar procesos de litografía rápidos en muestras y sustratos.

El sistema consta de una fuente de luz LED paralela de 365 nm y una bandeja deslizante en la que se puede colocar la máscara fotolitográfica y la muestra a exponer.

Se puede proporcionar una variedad de soportes y personalizaciones para su aplicación.

  1. Fuente de iluminación LED de larga duración
    source.
  2. Óptica de luz paralelas.
  3. Longitud de onda de 365nm.
  4. Obleas de hasta 4 pulgadas.
  5. Navegación basada en contacto con botones y rotor codificado.
  6. Robusto y de fácil uso.
  7. Altamente personalizable para escenarios de uso específicos.
Óptica
Longitud de onda365±5nm
Tiempo de exposición0.1 – 100 s
Área de exposición100mm diameter
 Densidad de poder< 5%
Homogeneidad Divergencia de luz< 3°
Mecánica
Tamaño220x230x320 mm
Peso9kg
Instalación eléctrica110v/220v 50w

El proceso de litografía es la técnica básica para reducir el tamaño y la dimensión de los dispositivos, en el enfoque “top-down”. Esta técnica es transversal a muchos campos de la física, la ingeniería y las biociencias, ampliando y consolidando las aplicaciones de microfabricación y nanotecnología. Durante el proceso de litografía, se transfiere un patrón a una resina fotosensible, recubierta por centrifugado sobre la muestra. A continuación, se construye la fotoresina eliminando las áreas expuestas (para fotosensibilidad positiva). Usando grabado químico o físico (por ejemplo, ataques iónicos o ácidos), se eliminan las áreas desprotegidas de la muestra y finalmente se transfiere el patrón deseado a la muestra.

El microexposer es un sistema robusto (estructura completamente metálica), especialmente diseñado para un uso fácil, bajos requisitos de mantenimiento y fabricación rápida de dispositivos monocapa. Se pueden solicitar portamuestras personalizados para muestras y sustratos especiales, como sustratos no planos o flexibles. El microexposer es ideal para escalar desde la fabricación de laboratorio hasta la producción comercial de bajo volumen.

Nuestro microLaser: Sistema de Litografía Láser Directa, permite al usuario fabricar sus propias máscaras ópticas, ofreciendo una mayor versatilidad. El sistema microexposer, como herramienta complementaria del microLaser, ofrece la posibilidad de trabajar con fotoresinas sensibles a 365 nm y obtener estructuras de alta relación de aspecto en el proceso de litografía. Estas características hacen que el conjunto de microexposer y microláser, sea la solución de bajo costo definitiva para la fabricación y el desarrollo rápidos de aplicaciones monocapa, incluidos los dispositivos biomédicos y de microfluidos.

Plataforma de Microfabricacion

Marca: Mutech

Técnica: Mutech

Analisis de Aplicaciones e Impacto sobre las capacidades Institucionales.
Equipo:
Módulo de espineado de liquidos y resinas sobre sustratos. Módulo de litografía por escritura directa por láser
Módulo de litografía optica por alienación con máscaras
Módulo de iluminación UV para microfabricación de alta exposición.

La plataforma de microfabricación es un equipamiento pensado para brindar la máxima versatilidad al menor costo para grupos de investigación o instituciónes, permitiendo introducir las técnicas de microfabricación ampliando las capacidades tanto en el área de investigación y desarrollo, formación de recursos humanos como de producción a escala semi-industrial. Todos los sistemas estan especialmente diseñados para ofrecer un facil manejo, una alta durabilidad, reduciendo los requerimientos de mantenimiento y servicio técnico. Son equipos muy compactos, que estan diseñados especificamente para reducir los requerimientos de ambiente controlado para facilitar la introducción y aplicación de las técnicas de microfabricación con modificaciones mínimas y de bajo costo en las instalaciones.

El módulo de espineado de resinas es un sistema que rota a alta velocidad un sustrato como obleas de silicio o vidrio, controlando tanto el tiempo de giro como la velocidad y aceleración del movimiento. Viene con una mini bomba de vacio incorporada, permitiendo esparcir de manera controlada liquidos o resinas para el proceso de litografía o fabricación de películas delgadas por métodos químicos.

Módulo de litografía por escritura directa por láser

Este sistema consiste en un laser de 405 nm controlado por computadora que “graba” o escribe sobre resinas fotosensensibles el patrón, que es introducido en el sistema de control. Es un sistema orientado al desarrollo y fabricación de sistemas por litografía óptica, siendo la herramienta fundamental para el área de microfabricacíon. Al ser un equipo de litografía directa no requiere la utilización de máscaras de litografía para el proceso. Simplemente se introduce el motivo o “dibujo” del sistema a fabricar en el equipo y este los translada a la muestra mediante litografía óptica. Esto permite moficar el diseño de acuerdo al resultado de las mediciones de manera rápida, reduciendo el tiempo de optimización para la fabricación de muestras y el prototipado de dispositivos. Tiene aplicaciones en todas las áreas de ingeniería y física en las cuales es importante reducir las dimensiones del sistema. Entre las áreas específicas de mayor impacto se encuentras la de ciencias de materiales, óptica, micro electrónica, desarrollo de sensores y dispositivos, propiedades mecánicas en la micro y nanoescala, modificación de superficies, etc.
Su principal aplicación es como módulo complementario de sistemas de exposición por UV como las alienadoras o módulos de iluminación ya que permite la fabricación de las máscaras que utilizan estos sitemas logrando unificar la gran versatilidad en el diseño de los sistemas que ofrece el sistema de escritura directa con las capacidades de los módulos de exposición UV.


Módulo de litografía optica por alienación con máscaras

Sistema de ilumicación UV que utiliza máscaras de litografía para transpasar el patrón de la misma a resinas fotosensibles, para el proceso de microfabricacíon, permitiendo reducir las dimensiones de los sistemas. El sistema posee una fuente de luz LED de 365 nm única en el mercado. A diferencia de las lámparas de mercurio de los sistemas existentes, no requiere de tiempo de calentamiento y enfriado para su utilización reduciendo notablemente la duración del proceso. El sistema posiciona la máscara de manera controlada sobre la muestra, variando la posicion relativa en el plano (traslación y rotación),permitiendo orientar y posicionar el patrón a grabar sobre un patron pre-existente en la muestra. Esto permite fabricar muestras o sistemas que requieren varios “pasos” o procesos sucesivos para su fabricación, permitiendo la fabricación de sistemas más complejos y estructuras 3D.
Su fuente de 365 nm permite el grabado de resinas tipo epoxy que se enduren durante el proceso permitiendo su aplicación en áreas como microfluídica, biotecnología y medicina. Entre las aplicaciones más relevantes esta el desarrollo de plataformas Lab-on-chip donde se combina la microfluídica con sensores para desarrollar plantillas inteligentes de sensado y control. El sistema tiene aplicaciones en el desarrollo de sensores, microambientes para el testeado de enfermedades y procesos biológicos, funcionalización de superficies, etc.
Su combinación con el equipo de litografía directa permite aprovechar el gran campo de aplicación que ofrece la alienadora con la gran versatilidad en el diseño de los sistemas que da la posibilidad de fabricar uno mismo las máscaras a utilizar.

Módulo de iluminación UV para microfabricación de alta exposición.

Sistema robusto de exposión UV para procesos de microfabricación con una fuente de luz LED de 365 nm, sin sistema de alineacíon y con un sistema rápido de carga de muestras y máscaras. Es un sistema simple muy robusto que permite la exposición de muestras y fabricación de sistemas donde no es necesario realizar una alineación del patrón a grabar. Esto permite que el sistema sea muy simple y rápido de utilizar, con un bajo mantenimiento. El sistema esta especialmente orientado a su utilización por estudiantes y la formación de recursos humanos en el área de microfabricación. Permite la realización de experiencias en física en áreas como óptica (fabricación de redes de difracción), modificación de superficies para el estudio de transferencia de calor, fabricacion y caracterización de dispositivos microelectronicos (microbobinas, microcapacitores, termometros, etc). Permite introducir a los estudiantes de manera interesante a diferentes fenomenos de la física e ingeniería, asi como en procesos de desarrollo tecnológico. El sistema permite además la fabricación rápida de dispositivos, permitiendo el escaleado a nivel semi-industrial de los sistemas desarrollados para su comercialización.

Abrir chat